Литография в домашних условиях
АО НИИТМ завершило поставку заказчику вакуумной установки плазмохимического травления оксида кремния ПЛАЗМА ТМ 7
Установка входит в линейку оборудования плазмохимического травления диэлектрических слоёв и полупроводниковых материалов ПЛАЗМА ТМ
Её особенностями называются адаптивность, универсальность, высокая герметичность рабочей камеры, стабильность работы в агрессивных средах, повышенная точность и воспроизводимость благодаря встроенной оптической системе определения окончания процесса травления
Установка гарантирует высокую степень надёжности в сочетании с высокой скоростью травления оксида кремния (SiO₂) от 300 нм/мин.
В зависимости от выбора эксплуатационных газов возможно травление различных материалов: нитрид кремния (Si₃N₄), поликремний (poly-Si) и монокристаллический кремний (mono-Si)
📸 Сообщество НИИТМ в VK
Макс | Телеграм Если у вас установлено приложение,
вы можете сразу перейти в канал