Запорожское агентство новостей
Чипам быть! В России создан безмасочный литограф с техпроцессом 150 нм
Российские специалисты создали установку электронно-лучевой литографии с технологическим процессом 150 нм, главной особенностью которого стала работа в безмасочном режиме.
«Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры», — рассказал портал CNews генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев.
В отличие от фотолитографии, где рисунок переносится через фотошаблон, электронно-лучевая литография формирует изображение непосредственно на подложке. Это критически важно для производства опытных партий, прототипов и специализированных малотиражных микросхем.
Фото: ЗНТЦ
Читать полностью
👁 Макс | ТГ | ВК Если у вас установлено приложение,
вы можете сразу перейти в канал